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专利名称：一种半导体表面清洗剂及其制备方法申请号：2015105932897 转让价格：面议收藏
法律状态：已下证类型：发明关键词：15天相似专利发布日：2024/10/09
摘要：本发明实施例公开了一种半导体表面清洗剂，按重量份包括如下组份：氟碳溶剂10‑60份、氢氟醚10‑60份、有机醇1‑20份、表面活性剂1‑20份、螯合剂1‑15份和稳定剂1‑15份。本发明半导体表面清洗剂含氟代化合物,因而不易燃、挥发速率快，不含破坏环境的氟氯烃类化合物，对半导体表面污垢具有较好的溶解、清洗性能，适用于半导体表面残留物、助焊剂、松香、树脂、油污、指印、灰尘的清洗，清洗效果良好。也可用在电子、数码、太阳能工业产品的表面清洗上。

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