发明专利 已授权

一种柔性透明场发射冷阴极的制备方法

📄 申请号:CN202011593091.6 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2020-12-29
公开号
CN112701023A
公开日
2021-04-23
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

场发射显示器, 柔性显示, X射线源, 真空微电子器件, 平板显示

摘要

本发明属于场发射冷阴极领域,提供了一种柔性透明场发射冷阴极的制备方法,其主要特征是在耐高温透明柔性基底上,基于超薄多孔氧化铝(AAO)模板以及真空物理沉积技术,实现在柔性及透光性良好的基底上的场发射冷阴极材料的制备。该制备方法主要包括4部分,(1)在柔性透明基底上沉积导电透明金膜;(2)在沉积金膜的基底上附着AAO模板;(3)利用真空物理沉积技术制备得spindt型金属阵列;(4)去除AAO模板。本发明的柔性透明场发射冷阴极制备方法简单、成本低、可进行大面积制备,在柔性平板显示器等领域中有广泛的应用前景。

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是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN112701023A

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:37 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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