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摘 要:本发明属于场发射冷阴极领域,提供了一种柔性透明场发射冷阴极的制备方法,其主要特征是在耐高温透明柔性基底上,基于超薄多孔氧化铝(AAO)模板以及真空物理沉积技术,实现在柔性及透光性良好的基底上的场发射冷阴极材料的制备。该制备方法主要包括4部分,(1)在柔性透明基底上沉积导电透明金膜;(2)在沉积金膜的基底上附着AAO模板;(3)利用真空物理沉积技术制备得spindt型金属阵列;(4)去除AAO模板。本发明的柔性透明场发射冷阴极制备方法简单、成本低、可进行大面积制备,在柔性平板显示器等领域中有广泛的应用前景。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011593091.6 | 专利名称: | 一种柔性透明场发射冷阴极的制备方法 |
申请日: | 2020-12-29 | 申请/专利权人 | 杭州电子科技大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下沙高教园区二号路 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01J9/02搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2021-04-23 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112701023A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |