发明专利 已授权

一种磁控镀膜仪工艺参数的优化方法

📄 申请号:CN201910466571.7 📄 发布日:2026/07/10

著录项目信息

申请日
2019-05-31
公开号
CN110262233B
公开日
2022-12-16
申请人
江苏大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学镀膜, 半导体制造, 工具硬质涂层, 表面防护装饰, 太阳能电池薄膜

摘要

本发明提供了一种基于遗传算法和BP神经网络的磁控镀膜仪工艺参数的优化方法,包括:步骤一:选取磁控镀膜仪的工艺参数进行试验,得到薄膜的电阻率、透光度以及薄膜厚度;步骤二:以磁控镀膜仪的工艺参数作为输入,以薄膜的电阻率、透光度以及厚度作为输出,构建一个含有多个隐含层的BP神经网络模型;步骤三:利用遗传算法优化BP神经网络初始的权值和阈值,得到最优的个体的权值和阈值;步骤四:将步骤三中得到的最优个体的权值和阈值赋值给BP神经网络模型,用步骤一的样本训练BP神经网络;步骤五:再次使用遗传算法优化磁控溅射镀膜仪的工艺参数,其中,使用步骤四训练得到的神经网络的预测输出构建适应度函数;本发明能够快速精确地对磁控溅射法镀膜工艺参数优化。

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是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN110262233B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G05B13_04)

G05B13_00 G05B13_02 G05B13_04 覆盖3个领域
¥18000.0 元
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:31 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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