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摘 要:本发明公开了一种本发明公开了一种可见光双向吸收体结构。该吸收体结构制备步骤如下:(1)利用纳米加工技术在基底材料上制备二维纳米阵列单元,纳米结构单元周期为100‑200 nm,纳米结构单元底部宽度与周期的比值小于0.4,纳米结构单元的高度与单元底部宽度的比值大于1.5;(2)在二维纳米结构单元上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20nm的金属层;(3)在上述金属层上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20 nm的介质层。本发明实现了可见光的双向近完美吸收,具有结构简单、材料消耗少、广角的特性,在光电探测器、及隐身伪装等领域具有广泛的应用前景。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510915402.9 | 专利名称: | 一种可见光双向吸收体结构 |
申请日: | 2015-12-14 | 申请/专利权人 | 淮阴工学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省淮安市枚乘东路1号淮阴工学院数理学院 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B81B1/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2018-03-02 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN105480931B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |