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摘 要:本发明公开了一种处理放射性废水的MoS2/还原氧化石墨烯纳米片的制备方法,其特征在于,包括:将氧化石墨烯和H3PMo12O40加入去离子水中,搅拌并进行第一次超声,然后加入硫脲,搅拌并进行第二次超声,得到反应混合液;将反应混合液转移到特氟龙衬里不锈钢高压釜中,在140~230℃下反应24h,然后自然冷却至室温,然后用水洗涤,并干燥过夜,得到MoS2/还原氧化石墨烯纳米片。本发明制备的二硫化钼/还原氧化石墨烯纳米片,其能够在模拟阳光下同时选择性吸附和光催化还原U(VI);采用的还原氧化石墨烯RGO不仅可以用作生长MoS2的基体,而且可以用作改善电荷分离的电子受体和转运体,从而大大提高了U(VI)萃取的光催化还原能力。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201911256135.3 | 专利名称: | 处理放射性废水的MoS2/还原氧化石墨烯纳米片的制备方法 |
申请日: | 2019-12-10 | 申请/专利权人 | 西南科技大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G21F9/12搜分类 废水处理 氧化石墨烯 MoS2 纳米搜索 |
公开/公告日: | 2022-03-04 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN111063468B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |