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摘 要:本发明涉及一种化学机械抛光用纳米抛光液。该纳米抛光液包括含氟硼酸盐、纳米研磨料、表面活性剂、无机酸和溶剂去离子水。该纳米抛光液具有稳定性好、易清洗、损伤小、不腐蚀设备等优点。本抛光液适用于半导体领域铪基材料的化学机械抛光。利用上述抛光液对氧化铪进行抛光,抛光速率可控制在100~200nm/min,并且抛光后表面粗糙度可降到1nm以下。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201310105238.6 | 专利名称: | 一种化学机械抛光用纳米抛光液 |
申请日: | 2013-03-28 | 申请/专利权人 | 天津理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 天津市西青区宾水西道391号天津理工大学主校区 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C09G1/02搜分类 化工机械 机械抛光 机械制造 纳米搜索 |
公开/公告日: | 2013-06-12 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN103146307A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2014/12/10 | 授权 | |
2013/07/17 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C09G 1/02 专利申请号: 201310105238.6 申请日: 2013.03.28 |
2013/06/12 | 公开 |