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摘 要:投影光场立体显示中,一维逆反射片到投影机的距离发生变化时,其一维逆反射效果会发生恶化。为解决这一问题,本发明提出了一种用于投影光场立体显示的一维逆反射片。该用于投影光场立体显示的一维逆反射片由第一柱透镜光栅、狭缝光栅、第二柱透镜光栅及漫反射层构成。第一柱透镜光栅构成第一逆反射结构。第二柱透镜光栅及漫反射层构成第二逆反射结构。该一维逆反射片利用狭缝光栅对光束的约束作用配合复合逆反射结构可优化一维逆反射效果,从而最终使得在投影机距离较近条件下本一维逆反射片仍然具有较好的逆反射效果。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202210244847.9 | 专利名称: | 一种用于投影光场立体显示的一维逆反射片 |
申请日: | 2022-03-14 | 申请/专利权人 | 成都工业学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 四川省成都市郫都区中信大道二段1号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B30/27搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2022-04-15 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN114355623A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |