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摘 要:本发明涉及一种非局部低秩约束的自校准并行磁共振成像重构方法,属于磁共振成像技术领域。并行磁共振成像重构一直是近几年的研究热点。本发明基于SPIRiT重构框架,提出一种图像非局部低秩约束(nonlocal low‑rank,NLR)的高质量磁共振成像重构模型,命名为NLR‑SPIRiT,利用交替方向乘子法(alternating direction method of multipliers,ADMM)进行求解。实验比较了结合了联合全变分(Joint Total Variation,JTV)正则项的迭代自一致并行成像JTV‑SPIRiT模型。实验结果表明,NLR‑SPIRiT算法重构出的图像有更好的重构质量,能更好的去除欠采样伪影。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110452944.2 | 专利名称: | 一种非局部低秩约束的自校准并行磁共振成像重构方法 |
申请日: | 2021-04-26 | 申请/专利权人 | 昆明理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 云南省昆明市五华区学府路253号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G06T11/00搜分类 低 港口 磁共振成像搜索 |
公开/公告日: | 2021-06-18 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112991483A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
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日期 | 法律信息 | 备注 |