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专利名称:
电隔离结构及其制备方法
申请号:
2020114227637
转让价格:面议
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法律状态:已下证 类型:发明 关键词:
电子电气工程 电气隔离 电力 隔离器 绝缘器 电气元器件 电气元件 配电 电气自动化
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发布日:2025/04/29
摘要: 本发明涉及一种电隔离结构及其制备方法。在光学器件的光吸收区制备高吸收结构,电隔离结构的电极纳米森林包围器件电极,在电极纳米森林上设置非连续的电极纳米森林金属层;电极纳米森林具有大深宽比,金属溅射或蒸发工艺的不完全保型性,电极纳米森林的侧壁无法被完全覆盖,金属薄层无法形成连续薄膜,即能在电极纳米森林上制备得到非连续的电极纳米森林金属层。由于制备得到的电极纳米森林本身不导电,因此,覆盖了非连续的电极纳米森林金属层的电极纳米森林仍具有绝缘性,从而能有效实现器件电极之间的电隔离,与现有工艺兼容,安全可靠。
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