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本实用新型公开了一种可提高平面靶材利用率的装置，包括固定管，所述固定管的内顶部与内底部上均开设有滑槽，两个所述滑槽内均滑动连接有滑块，两个所述滑块之间共同固定连接有移动块，所述固定管内设置有用于对移动块进行移动的移动机构，所述移动块的侧壁上开设有放置槽，所述放置槽内设置有两个用于对靶材进行夹持的夹持机构，所述移动块内还开设有两个对称设置的腔体。本实用新型结构合理，通过设置移动机构，实现对靶材的位置进行调节，避免靶材采用固定式，消耗范围无法控制，导致消耗量增加，利用率较低，通过设置驱动机构以及夹持机构，实现对靶材进行有效的夹持，便于靶材的更换，提高装置实用性。

本发明公开了一种曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备及其应用方法，该磁控溅射阴极包括曲面靶、水冷套、电极、绝缘套、屏蔽组件、磁靴、磁靴转动、支撑固定机构，绝缘套对阴极组件进行电位绝缘，屏蔽组件为放电过程中的悬浮电位组件，磁靴转动可实现磁靴的滑动，提高靶材的利用率，曲面靶靶材是由多组表面可复合非金属的金属基片瓦拼接并通过螺栓固定在由不锈钢管表面焊接水冷管的水冷套上，通过电极接通负电压进行磁控溅射辉光放电，受阴极形状限制，辉光放电中的电子发生汇聚产生空心阴极效应，即提高了溅射速率，又增强了粒子的离化率。本发明可在高真空下磁控溅射产生大束流高离化率的粒子，获得优质的涂层。

本实用新型公开了一种磁控溅射设备的抽气装置，包括抽气箱体，所述抽气箱体的内部固定连接有抽气泵，所述抽气管道的一端固定连接有抽气接头，所述抽气泵的上方固定连接有输气管道，所述输气管道的一端固定连接有冷凝装置，所述输液管道的一端固定连接有过滤装置，所述过滤装置的一侧固定连接有液体输出管，所述底座的上表面开设有滑槽，所述滑动块的一侧与弹簧固定连接，所述滑动块与滑槽滑动连接。本实用新型通过冷凝装置和过滤装置的设置，便于通过冷凝器对抽入的气体进行冷凝，有利于快速对气体的温度进行降低，同时便于对气体及冷却液体内部的杂质及有害物质进行过滤，避免有害气体直接排出对环境造成的污染。

本申请提供了一种磁控溅射基台与磁控溅射设备，涉及基片刻蚀技术领域。该磁控溅射基台包括边缘环与用于承载待加工基板的夹盘，边缘环环绕于待加工基板的外周且与夹盘连接，边缘环的表面高于待加工基板的表面，边缘环的表面设置有Al2O3保护层。本申请提供的磁控溅射基台与磁控溅射设备具有使用寿命长，使用成本低的优点。