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专利名称:
以Si为基底c轴取向生长Bi4Ti2.95Co0.05O12多铁薄膜及其制备方法
申请号:
2019104600233
转让价格:面议
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法律状态:已下证 类型:发明 关键词:
薄膜材料 电极薄膜 电子电力薄膜材料 半导体集成电路薄膜 导电薄膜 电路薄膜
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发布日:2025/04/14
摘要: 以Si为基底c轴取向生长Bi4Ti2.95Co0.05O12多铁薄膜,包括以下组分:Bi(NO3)2·5H2O、Co(NO3)2·6H2O、钛酸丁酯、乙二醇甲醚、乙酰丙酮;制备方法的步骤为:以Bi4Ti2.95Co0.05O12溶胶为前驱体,在以c轴取向LaNiO3为缓冲层的Si基底上制备Bi4Ti2.95Co0.05O12凝胶薄膜,随后经干燥、热处理,制备具有c轴取向性的Bi4Ti2.95Co0.05O12多铁薄膜;具有优异的导电性、可取代铂和金等贵金属作为Bi4Ti2.95Co0.05O12薄膜电性能测试的底电极的特点。
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