本发明公开了一种半导体光催化剂材料及其加工工艺,该复合光催化剂材料包括金属铈、钒酸铋和六方氮化硼,该复合光催化剂材料以六方氮化硼为载体,六方氮化硼上负载有掺杂金属铈的钒酸铋;该复合光催化剂材料的加工工艺为:钒酸铋的制备;铈/钒酸铋复合物的制备;六方氮化硼纳米片的制备;铈/钒酸铋/六方氮化硼复合光催化剂的制备;该复合光催化剂材料中,钒酸铋光催化剂通过掺杂金属铈,并负载在六方氮化硼载体上,两者共同作用,大大地抑制了钒酸铋光催化剂光生电子和空穴的复合,从而有效延长光生电子-空穴的寿命,提高其光催化活性;实验结果表明,本发明复合光催化剂材料具有很好的可见光催化性能。
📄 2019101903910
📂 B01J27_24
👤 高苑
📅 2019-03-13