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本发明涉及一种电池极耳镀镍领域,尤其涉及一种沉浸式铜片镀镍切割装置,包括有底板、还原剂缸、清水缸、固定机构、往复机构和镀镍机构等;底板上设有还原剂缸,底板上设有清水缸,底板右侧固接有固定机构,底板左侧固接有往复机构,往复机构上固接有镀镍机构。通过将待加工处理的铜片固定在第二固定杆上,第一滑动架带动第一固定条及其上装置向右运动,第二固定杆随即带动铜片进入还原剂缸内,第二滑动架带动转动把及其上装置沿着弧形架运动,带动铜片被滑入还原剂缸内进行化学处理,使铜片能够充分进行镀镍处理,便于进行后续操作。
📄 202111251139X 📂 B23D19_00 👤 王鸿阳 📅 2021-10-27
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发明 已授权

一种沉浸式铜片镀镍切割装置

202111251139X · 王鸿阳
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🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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CRISPR基因编辑技术

转让方:××大学
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交易类型:转让
交易金额:¥1,200万

SiC功率器件工艺专利

转让方:××半导体有限公司
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交易金额:¥680万
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钙钛矿光伏组件技术

转让方:××科技公司
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交易金额:¥50万/年