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一种晶圆正面涂源装置,包括支撑架、转动机构、顶升机构、防护罩,矫正机构及刮涂机构;转动机构,其设于支撑架上,包括转动构件和固定构件,转动构件用于驱动固定构件进行转动,固定构件用于晶圆的放置固定;顶升机构设于转动机构上;防护罩设于支撑架上;矫正机构其设于防护罩上,当晶圆转动时,以使晶圆绕其几何中心进行转动;刮涂机构,其设于防护罩上,用于扩散源的涂盖操作。方便进行晶圆的涂源操作,在涂源时通过缓速涂布的方式进行涂布,从而当源液的粘稠度较低时,也方便进行源液的涂布操作,同时在涂布时能降低源液的浪费量,而在涂源时采用由内而外的刮涂方式,能将源液均匀地涂布在晶圆上,从而确保形成的扩散膜的平整性。
📄 202210120586X 📂 H10P72_00 👤 四川洪芯微科技有限公司 📅 2022-02-09
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一种晶圆正面涂源装置

202210120586X · 四川洪芯微科技有限公司
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🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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成功交易案例

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固态锂电池电解质专利包

转让方:中国科学院××研究所
受让方:××新能源科技有限公司
交易类型:独占许可
交易金额:¥320万
🧬

CRISPR基因编辑技术

转让方:××大学
受让方:××生物医药有限公司
交易类型:转让
交易金额:¥1,200万
⚡

SiC功率器件工艺专利

转让方:××半导体有限公司
受让方:××汽车电子集团
交易类型:转让
交易金额:¥680万
☀️

钙钛矿光伏组件技术

转让方:××科技公司
受让方:××能源集团
交易类型:开放许可
交易金额:¥50万/年