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摘 要:环形结构下分布布拉格反射镜垂直腔面发射半导体激光器属于半导体激光器技术领域。现有技术出光口存在工艺损伤,也不易与光纤、透镜等元件良好耦合,器件的散热效果也有待改善。本发明之激光器自上而下依次是上电极、欧姆接触层、上分布布拉格反射镜、氧化物限制层、有源增益区、下分布布拉格反射镜、衬底、下电极;上电极、氧化物限制层的形状为内径相同的环形,所述环形的宽度为3μm~5μm,所述环形的外径为115μm~125μm;在下分布布拉格反射镜、衬底、下电极的中心部分存在一个圆柱形空心区域,所述圆柱形空心区域的顶面高度低于下分布布拉格反射镜的内镜面、高于下分布布拉格反射镜的外镜面,所述圆柱形空心区域的直径为85μm~95μm,在所述圆柱形空心区域中填充有高导热率焊料。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201911084649.5 | 专利名称: | 环形结构下分布布拉格反射镜垂直腔面发射半导体激光器 |
申请日: | 2019-11-08 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市朝阳区卫星路7089号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01S5/183搜分类 半导体 布 纺织面料搜索 |
公开/公告日: | 2021-03-26 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN110829178B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |