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光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法及其应用

来源:https://www.shizifang.com  发布日:2023/10/17

摘     要:本发明提供了一种光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法及其应用,包括如下步骤:将二氧化硅加入硅烷偶联剂混合液中,经超声振动、抽滤、洗涤后,再加入到8wt%‑12wt%的聚六亚甲基胍盐酸盐的水溶液中反应,得到抗菌二氧化硅;将得到的抗菌二氧化硅加入到乙醇分散液中,并向其中加入含巯基的硅烷偶联剂,加热反应后,得到光敏抗菌二氧化硅;将得到的光敏抗菌二氧化硅与脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酯及光起始剂进行高速搅拌混合,经光照得到光固化抗菌二氧化硅涂层。本发明通过控制介孔二氧化硅上偶联的抗菌成分的含量,从而控制介孔二氧化硅上剩余的反应位点及位阻,使制备的光固化抗菌二氧化硅涂层的抗菌性强,损失率低。

著 录 项: 

专利/申请号: CN202210038487.7 复制 专利名称: 光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法及其应用 复制
申请日: 2022-01-13 申请/专利权人 武汉纺织大学
专利类型: 发明 地址: 湖北省武汉市江夏区阳光大道1号
专利状态: 已下证 查询审查信息 分类号: D06N3/14搜分类   无机化合物 硅 港口 氧化硅搜索
公开/公告日: 2023-08-29 转让价格: 面议
公开/公告号: CN114369960B 交易状态: 等待洽谈   搜索相似专利

专利交易流程

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专利转让材料

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    专利转让协议(需盖公章)一式两份 专利转让协议(需签字)一式两份
    专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
    专利证原件(若授权下证) 专利证原件(若授权下证)

专利法律信息

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