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摘 要:本发明公开了一种基于光场迭代的精确的高反光去除方法:(1)结合光场数据提取中心视角图像,运用自适应阈值和光场迭代算法,充分检测到每一个镜面像素点;重聚焦到镜面候选的每个角度,计算角度像素方差,并设定阈值得到饱和像素点和非饱和像素点;对非饱和像素点转换到HSI空间中进行聚类,运用双色反射模型结合本征图像处理非饱和像素点。(2)提出自适应方向的饱和像素点处理方法,利用边缘检测算子去除对重建饱和像素点有干扰的边缘方向;然后,基于光场的多个角度特征,提出高斯概率分布模型运用到光场图像角度域中进行加权求和以替代饱和高光像素点。(3)提出镜面残余占比和图像信息熵结合的方法定量评估高光去除效果。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011308683.9 | 专利名称: | 基于光场迭代的精确高反光去除方法 |
申请日: | 2020-11-20 | 申请/专利权人 | 湖北工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 湖北省武汉市洪山区南李路28号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G06T5/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2021-07-06 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112419185B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2021/07/06 | 授权 | |
2021/03/16 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G06T 5/00 专利申请号: 202011308683.9 申请日: 2020.11.20 |
2021/02/26 | 公开 |