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摘 要:本发明公开了一种用于高双折射率液晶的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂及其合成方法,该稀释剂的结构式为式中X1、X2各自独立的代表H或F,R代表C2~C7烷基,其采用工业上成熟的Suzuki偶联反应和脱氢反应进行合成,方法简便且高效。本发明稀释剂结构中含有二氟乙烯氧基末端基,能够有效改善高双折射率液晶的低温性能,且双折射率和介电各向异性都比商业化稀释剂3HHV明显提高。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201911299645.9 | 专利名称: | 一种用于高双折射率液晶的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂及其合成方法 |
申请日: | 2019-12-17 | 申请/专利权人 | 陕西师范大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 陕西省西安市长安南路199号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C07C41/24搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2020-04-03 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN110950743A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2022/10/21 | 授权 | |
2020/05/01 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C07C 41/24 专利申请号: 201911299645.9 申请日: 2019.12.17 |
2020/04/03 | 公开 |