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摘 要:本发明涉及一种低应力类金刚石薄膜的制备方法。本发明的目的是要在保证DLC薄膜的光学透过率及硬度的基础上,减小其应力。所提供的技术方案是:一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法,是在DLC及介质薄膜的表面形成具有闭环的磁通路,且使闭环的磁通量具有最大的梯度。所提供的装置包括导磁外框,在外框内设置有一对永磁铁,第一永磁铁和第二永磁铁,第一永磁铁和第二永磁铁的距离可调。利用本发明的方法,对于DLC薄膜可以将损伤阈值从0.57 J/cm2提高到1.23 J/cm2。对于介质薄膜,可以使激光损伤面积减少50%左右。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910348527.6 | 专利名称: | 一种低应力类金刚石薄膜的制备方法 |
申请日: | 2019-04-28 | 申请/专利权人 | 西安工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 陕西省西安市未央区学府中路2号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C14/06搜分类 塑料 低 港口 膜的制备方法搜索 |
公开/公告日: | 2019-08-09 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN110106470A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |