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摘 要:一种钽衬底上生长InxGa1-xN纳米线的光电极,包括Ta衬底、中间层和InxGa1-xNN纳米线层,其中,x=0.05~0.5。中间层包括Ta氮化物,且构筑于所述Ta衬底与所述InxGa1-xN纳米线层之间,与InxGa1-xN纳米线层的能级匹配。通过阳极氧化法结合高温氨化法对钽片进行前处理,形成中间层,然后采用VLS-CVD法,在处理后的钽片上生长InxGa1-xN纳米线。本发明设计了Ta/(Ta2N/TaN/Ta3N5)/InxGa1-xN纳米线结构的光电极,构筑了能级匹配的中间层,大幅度提高光催化分解水制氢和光催化降解水中有机污染物效率,且方法简单,在解决能源和环境问题方面有着重要的应用前景。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711485380.2 | 专利名称: | 一种钽衬底上生长InxGa1-xN纳米线的光电极及其制备方法 |
申请日: | 2017-12-29 | 申请/专利权人 | 厦门理工学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 福建省厦门市集美区理工路600号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C25B11/06搜分类 电子元器件 纳米线 底 电子设备和元器件 生长搜索 |
公开/公告日: | 2019-07-30 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108193230B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2019/07/30 | 授权 | |
2018/07/17 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C25B 11/06 专利申请号: 201711485380.2 申请日: 2017.12.29 |
2018/06/22 | 公开 |