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摘 要:本发明公开了一种静电直写规整孔结构全氟聚合物多孔膜的制备方法,包括:S1、采用AutoCAD绘制具有不同膜孔尺寸的规整孔结构模型,作为电纺直写的基础构架;S2、将全氟聚合物乳液与纺丝载体聚乙烯醇水溶液共混,硼酸作为添加剂制成纺丝液;S3、将步骤S2中的纺丝液注入静电直写装置中,经静电直写、空气固化成形得到具有不同膜孔尺寸的规整孔结构的多孔膜前驱体,后经马弗炉烧结即得所述规整孔结构全氟聚合物多孔膜。本发明的制备方法工艺步骤简单、可控性强,膜孔形状和几何尺寸可精确调控,所得全氟聚合物多孔膜可用于苛刻环境下的特种分离。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010444033.0 | 专利名称: | 一种静电直写规整孔结构全氟聚合物多孔膜的制备方法 |
申请日: | 2020-05-22 | 申请/专利权人 | 天津工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 天津市西青区宾水西道399号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | D04H1/728搜分类 多孔膜 多孔膜的制备 膜的制备方法搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |