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摘 要:本发明属于电解铜箔领域,为解决电解铜箔添加剂能够非常地改善电解铜箔的力学性能甚至电化学性能,而现有技术无法实现电解铜箔添加剂的高效、有效筛选的问题,公开一种利用密度函理论筛选电解铜箔添加剂的方法,通过计算官能团与金属铜以及阴极辊的特定晶面的吸附能,并根据吸附能的绝对值判定金属铜和阴极辊的特定晶面的吸附性,根据吸附性对官能团进行功能性分类;基于所述功能性分类对添加剂进行筛选。本发明的方法1)能够高效地对大量官能团进行筛选;2)对官能团进行效果分类,归纳官能团能够实现相应的技术效果,对官能团进行分类;3)通过官能团分类能够快速筛选添加剂,以实现对电解铜箔的特定性能强化。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110638177.4 | 专利名称: | 一种利用密度函理论筛选电解铜箔添加剂的方法 |
申请日: | 2021-06-08 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C25D1/04搜分类 电子元器件 选 电解铜 电子设备和元器件搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |