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摘 要:圆柱滚子的超精密抛光方法,包括:采用双平面研抛设备对圆柱滚子的圆柱面进行粗抛光和精抛光;安装于双平面研抛设备的上抛光盘和下抛光盘均是半固着磨粒抛光盘;半固着磨粒抛光层中,包含:31~36wt%的α‑氧化铝颗粒,22~25wt%的氧化铈颗粒,23~27wt%的胶体二氧化硅,余量为结合剂;所述α‑氧化铝颗粒的粒径为0.02~15微米;所述氧化铈颗粒的粒径为0.01~5微米;所述结合剂由胶粘剂和添加剂组成,其中胶粘剂占60~80wt%。该方法具有抛光精度高,加工效率高,圆柱滚子表面光洁度高,且批一致性高的特点。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910328527.X | 专利名称: | 圆柱滚子的超精密抛光方法 |
申请日: | 2019-04-23 | 申请/专利权人 | 新昌浙江工业大学科学技术研究院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省绍兴市新昌县泰坦大道89号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24B1/00搜分类 精密抛光搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |