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摘 要:本发明提供了一种石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜,其制备方法为:用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理;采用热丝化学气相沉积法,在经过预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜,再将其置于500~650℃的空气中保温10~50min,即制得所述的石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜;本发明简单易行、容易操作,制备得到的具有强Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜与石英基体结合力较弱,为剥离获得具有Si‑V发光的纳米金刚石晶粒奠定了良好的基础,这对于实现纳米金刚石在生物标记、单光子源等领域的应用具有十分重要的科学意义和工程价值。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610866132.1 | 专利名称: | 石英基Si?V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜及其制备方法 |
申请日: | 2016-09-30 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C16/27搜分类 塑料 纳米搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |