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摘 要:本发明涉及光学领域,尤其涉及一种手性超结构。本发明中的一种采用金属硅化物的手性超结构,包括沿着光线入射方向依次设有的上硅化物层、介质层、下硅化物层和衬底层;上硅化物层、介质层和下硅化物层具有相同的平面结构,所述平面结构包括多个周期为p的单元结构,单元结构为四个中心对称的圆环和十字相交的长方形组成,圆环的内径为r1,圆环的外径为r2,长方形的长为l,长方形的宽m=r2‑r1;上硅化物层4和下硅化物层2厚度为t,介质层3的厚度为d。以NiSi为例,左,右圆偏振光透射谱线在磁共振点附近分开,产生了约0.42的圆二色性以及0.7的椭圆率,并发生相位突变,在共振点产生了从60°到‑55°的偏振旋转。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610549770.0 | 专利名称: | 一种采用金属硅化物的手性超结构 |
申请日: | 2016-07-14 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号浙江工业大学 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02F1/00搜分类 采 硅 港口搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |