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摘 要:本发明公开了一种用于扩散连接碳化硅陶瓷的复合中间层及其连接工艺,其中用于扩散连接碳化硅陶瓷的复合中间层的原料及配比构成如下:高纯氢化钛粉(TiH2)55‑65wt.%;高纯硅粉(Si)20‑25wt.%;高纯石墨粉(C)12‑17wt.%;高纯铝粉(Al)1‑3wt.%。本发明利用放电等离子烧结技术(Spark Plasma Sintering,SPS),在真空条件下制备了连接层厚度为20‑100μm的碳化硅(SiC)接头。连接层材料主要由钛碳化硅(Ti3SiC2)、碳化硅(SiC)和碳化钛(TiC)组成。通过改变原料的配比和烧结的工艺参数,室温下最高的剪切强度达到了135.8MPa,连接层复合材料硬度可达28.1GPa,超过了SiC母材的硬度,具有较高的实用价值。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810783473.1 | 专利名称: | 一种用于扩散连接碳化硅陶瓷的复合中间层及其连接工艺 |
申请日: | 2018-07-17 | 申请/专利权人 | 合肥工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 安徽省合肥市包河区屯溪路193号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B23K20/00搜分类 陶瓷 碳化硅陶瓷搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |