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摘 要:本发明提供了单晶电致发光器件的制备方法。该制备方法包括如下步骤:提供一基底,基底的表面上覆盖有透明导电电极材料;对基底进行亲水修饰处理,并对处理后的基底进行图案化光刻,以获得图案化基底;在图案化基底上施加电致发光材料溶液,再在其上覆盖盖片,在预设温度下加热,以在图案化基底上生长析出单晶发光材料;向图案化基底的靠近单晶发光材料的边缘处施加高分子绝缘层材料溶液,并使高分子绝缘层材料溶液覆盖部分单晶发光材料的表面,从而在单晶发光材料和图案化基底之间形成高分子绝缘层;在单晶发光材料和高分子绝缘层上蒸镀功能层材料,以获得单晶电致发光器件。该方法可以与传统光刻相兼容,极大提高发光器件的分辨率。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011602113.0 | 专利名称: | 一种单晶电致发光器件的制备方法 |
申请日: | 2020-12-29 | 申请/专利权人 | 苏州大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号苏州大学独墅湖校区909楼3303 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L51/56搜分类 光器件 电致发光 单晶搜索 |
公开/公告日: | 2021-04-27 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112713255A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2022/06/28 | 授权 | |
2021/05/14 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 51/56 专利申请号: 202011602113.0 申请日: 2020.12.29 |
2021/04/27 | 公开 |