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摘 要:本发明公开了一种活性层材料及其在制备三进制存储器件中的应用;通过合成聚4‑(4‑甲基丙烯酰氧基)‑偶氮)吡啶并以溶液旋涂的方法制备成薄膜,通过分子自组装的方法在聚合物表面组装了一层金属配合物,再以溶液旋涂的方法制备一层聚合物薄膜,得到活性层。通过本发明活性层制备的器件实现了稳定的多进制存储,尤其本发明通过分子自组装的方法在聚合物中间引入一层配合物层从而实现了器件由二进制存向三进制存储的转变。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610907342.0 | 专利名称: | 一种活性层材料及其在制备三进制存储器件中的应用 |
申请日: | 2016-10-18 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L51/00搜分类 存储器件 三 港口搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |