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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201410731545.X | 专利名称: | 一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法 |
申请日: | 2014-12-05 | 申请/专利权人 | 苏州大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市相城区济学路8号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B5/18分类检索 其他专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2017-01-25 | 转让价格: | 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN104375227B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明公开了一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法,基于莫尔条纹检测原理,在干涉记录光路中加入光楔进行光场位相调制,准确检测第一次曝光制作光栅与干涉记录光场之间的姿态和位相信息,最终实现第二次全息记录的光栅和第一次全息记录的光栅精确对准。为制作大面积全息光栅提供了一种有效的方法。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2017/01/25 | 授权 | |
2015/03/25 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G02B 5/18 专利申请号: 201410731545.X 申请日: 2014.12.05 |
2015/02/25 | 公开 |
申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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