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摘 要:本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法,在主全息干板上制备衍射光栅,包括下列步骤:(1)固定参考全息干板;(2)遮挡主全息干板,用全息光栅记录光场制备参考光栅;(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹,莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直,记录该莫尔条纹信息;(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影;(5)同步移动主全息干板和参考全息干板,调节参考光栅和记录光场的相对位置,使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致;(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影,完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接,保证了光栅条纹的平行精度和相位关系,可用于制备大面积的衍射光栅。
著 录 项:
专利/申请号: | CN200810155639.1 | 专利名称: | 一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法 |
申请日: | 2008-10-10 | 申请/专利权人 | 苏州大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B5/18搜分类 二次搜索 |
公开/公告日: | 2010-06-30 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN101382611B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2014/10/29 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人由苏州大学变更为苏州大学 地址由215123 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号变更为215137 江苏省苏州市相城区济学路8号 |
2010/06/30 | 授权 | 授权 |
2009/05/06 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
2009/03/11 | 公布 | 公布 |