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摘 要:提供一种修整金属膜或金属箔电位器线性精度的方法,在金属膜或金属箔电位器电阻体的设计过程中,采用在电阻体有效工作行程中,设计出带有并联分流电阻电阻体的方法,用增加或减少分流电阻的阻值来调整电位器的线性精度。采用本发明能够对金属膜或金属箔电位器的线性精度进行修整,提高了金属膜或金属箔电位器的制造精度和产品合格率。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610458115.4 | 专利名称: | 修整金属膜或金属箔电位器线性精度的方法 |
申请日: | 2016-06-22 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01C17/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |