发明专利已授权

双相位测量式激光干涉直线度及位移同时测量装置和方法

📄 申请号：CN202010554665.2 📄 发布日：2026/06/16

著录项目信息

申请日

2020-06-17

申请人

浙江理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01B11_02

IPC 分类号

G01B11_02 , G01B9_02 ,

技术画像

所属领域

激光干涉测量激光干涉测量位移测量直线度测量

应用场景

精密制造, 机床误差测量, 工业计量, 科研仪器

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摘要

本发明公开了一种双相位测量式激光干涉直线度及位移同时测量装置和方法。包含具有拍频信号输出的双频激光器和以渥拉斯顿棱镜和半透射半反射平面镜组合为测量镜的测量单元，直线度误差及位移分别采用双相位测量模式，每种相位测量模式用两个光电探测器测量，四路测量信号与双频激光器输出的参考信号一起经信号处理板和计算机处理后，同时得到被测物体的直线度误差及位移。本发明通过半透射半反射平面镜和渥拉斯顿棱镜的组合，采用双相位测量以及双正交锁相放大信号处理方法，对直线度误差及位移测量的非线性误差进行了补偿，提高了直线度误差及位移测量精度和稳定性。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210831

✅ 授权

20201030

?? 实质审查的生效：

20201002

📄 公开

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