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| 专利/申请号： | CN202222616756.1 | 专利名称： | 一种单片式晶圆清洗设备 |
| 申请日： | 2022-10-02 | 申请/专利权人 | 西安共进光电技术有限责任公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 陕西省西安市高新区丈八街办高新一路创新大厦N301室 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | B08B3/02 分类检索 |
| 公开/公告日： | 转让价格： | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号： | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 | |
| 浏览量： | 6 | 所属领域： | 半导体 报过专利转让搜索 |
应用场景：半导体芯片制造过程中的晶圆清洗环节;提高清洗效率与均匀性;减少化学污染与工艺成本
摘 要：本实用新型涉及晶圆清洗设备技术领域，具体涉及一种单片式晶圆清洗设备，包括壳体，所述壳体的外壁前端铰接有箱门，所述箱门的内壁中心处固定有隔板，所述隔板的外壁顶端设置有清洗组件，所述清洗组件包括清洗台、夹持部件和排水部件，所述清洗台的外壁底端与隔板的外壁顶端固定连接，通过上述方式可知本实用新型中能够通过设置的驱动电机驱动左夹持架和晶圆进行转动，使得工人在晶圆清洗好一个端面后不需要将其取下才能进行翻转，进而能够免去工人取下晶圆再进行翻转的步骤，从而能对晶圆的清洗效率做进一步提高。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 2023/01/13 | 授权 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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