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摘 要:本发明公开了一种钾掺杂介孔g‑C3N4光催化材料在降解有机染料废水中的应用,属于光催化材料技术领域。该光催化材料的制备包括如下步骤:将三聚氰胺和KI充分研磨后平铺于坩埚底部,将SBA‑15均匀的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面,然后将坩埚加盖后置于马弗炉内进行煅烧,产物经处理后即得所述钾掺杂介孔g‑C3N4光催化材料。该光催化材料比表面积大使得反应活性位点增加,钾掺杂后可有效抑制光生电子和空穴的复合,表现出更优异的光催化性能。本发明钾掺杂介孔g‑C3N4光催化材料可降解有机染料废水,在60min能降解80%以上的目标降解物,显示了优异的光催化活性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510649207.6 | 专利名称: | 一种钾掺杂介孔g-C3N4光催化材料在降解有机染料废水中的应用 |
申请日: | 2015-09-30 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B01J27/24搜分类 纺织印染 C 钾 港口搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |