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摘 要:本发明涉及半导体材料制备领域,提供一种立方结构MgZnO薄膜的制备方法,其包括如下步骤:制备Mg0.5Zn0.5O靶材;将衬底放入腔体中,加热所述衬底至400℃~500℃,通入流量为10sccm~70sccm的氧气,使腔体压强在4~8Pa,然后采用所述Mg0.5Zn0.5O靶材,在所述衬底上进行脉冲沉积,获得所述立方结构MgZnO薄膜。该方法利用不同生长条件下沉积原子迁移能的不同,可以有效控制立方结构MgZnO薄膜的生长取向,为制备不同取向立方结构MgZnO多元合金薄膜提供了便捷有效的手段。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201310073945.1 | 专利名称: | 一种立方结构MgZnO薄膜的制备方法 |
申请日: | 2013-03-08 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C14/08搜分类 塑料 Zn 膜的制备方法搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |