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摘 要:本发明提出了一种具有半绝缘多晶硅(SIPOS)层的纵向超结双扩散金属氧化物半导体场效应管(SJ‑VDMOS),该器件主要的特征是在器件超结漂移区的侧壁形成SIPOS层,SIPOS层两端分别连接器件的栅电极和漏电极。首先SIPOS层与超结漂移区形成金属‑绝缘体‑半导体(MIS)电容结构,在器件关断时,由于MIS电容两端具有电势差,该电容辅助耗尽超结漂移区,可以有效地增加N型漂移区的掺杂浓度,从而可以使得器件的导通电阻降低;其次SIPOS层上具有均匀的电阻率,在器件关断时通过电场调制效应使得器件超结漂移区上的电场分布均匀;再次在器件开态时,由于SIPOS层与器件超结漂移区的表面存在电势差,从而在超结漂移区上形成多数载流子积累层,器件的导通电阻进一步降低。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710157394.5 | 专利名称: | 一种具有半绝缘多晶硅层的纵向超结双扩散金属氧化物半导体场效应管 |
申请日: | 2017-03-16 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/06搜分类 半导体 多晶硅搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |