发明专利 已授权

一种基片的预处理装置

📄 申请号:CN202010635419.X 📄 发布日:2026/07/20

著录项目信息

申请日
2020-07-04
申请人
江海琦
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 集成电路制造, 显示面板制造, 光伏电池制造, MEMS制造

摘要

本发明公开了一种基片的预处理装置,预处理箱的左侧壁上成型有预处理进料口、右侧壁上成型有预处理出料口;工艺箱的左侧壁上成型有工艺处理进出口;预处理箱的左端面上升降设置有左封闭板;工艺箱和预处理箱之间升降设置有右封闭板;预处理箱内设置有左右传递装置;左右传递装置包括上部的矩形框状的基片限位框和下部的矩形框状的左右移动框;左右移动框左右移动设置在预处理箱内;基片限位框左右移动设置在左右移动框的上端面上;左右移动框的左右侧壁之间成型有若干前后均匀分布的下支撑板。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20220927
✅ 授权
20220920
⏳ 专利申请权的转移 :
20201103
?? 实质审查的生效 :
20201016
📄 公开

同领域国内专利 · IPC: (B29C63_02)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:13 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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