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摘 要:本实用新型公开了一种工业大麻水培装置,包括支撑机构以及水培机构,所述水培机构安装在所述支撑机构的上方,所述支撑机构包括底座、环形限位轨道、旋转电机以及安装架,所述环形限位轨道固定连接在所述底座底部的边缘处,所述旋转电机固定安装在所述底座顶部的中心处,所述安装架固定连接在所述旋转电机的输出轴上,所述水培机构包括培育箱、四个限位导杆、伺服电机、螺纹轴、水培组件以及四个限位滑槽。本实用新型通过支撑机构以及水培机构之间的相互配合,实现了一种工业大麻水培装置,不仅可以根据需要对大麻植株的根部浸水深度进行调节,而且可以对培育箱进行全方位转动,从而保证了光照均匀,因此保证了植株的正常生长。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202121942400.6 | 专利名称: | 一种工业大麻水培装置 |
申请日: | 2021-08-18 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | A01G31/02搜分类 水培搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2022/04/19 | 授权 |