发明专利已授权

一种基于紫外激光掩模刻蚀的微流控芯片结构

📄 申请号：CN201910834674.4 📄 发布日：2026/07/31

著录项目信息

申请日

2019-09-05

公开号

CN110665551A

公开日

2020-01-10

申请人

张红宾

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B01L3_00

IPC 分类号

B01L3_00 , C12M1_34 , C12M1_00 , H01L21_027 ,

技术画像

所属领域

微流控芯片微流控芯片激光微纳加工微纳制造技术

应用场景

生物检测, 化学分析, 医疗诊断, 药物筛选, 实验室分析

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摘要

本发明提供一种基于紫外激光掩模刻蚀的微流控芯片结构，包括上层片基和下层片基；微流控芯片经由上层片基和下层片基共同组成。当研究人员通过使用本申请文件所设计的微流控芯片完成核酸检测后，研究人员可将两组夹紧式断裂装置放置于本申请文件所设计的微流控芯片前后两端，并给予压力，使得两组夹紧式断裂装置向内夹紧，这时两组夹紧式断裂装置中的等腰三角形凸起块将给予上层片基前后两端面所开设的第一等腰三角形缺口结构压力，在等腰三角形凸起块的作用力下，第一等腰三角形缺口结构部位同纵向激光切口结构开裂，从而断裂开保留相对于上层片基底端面基于紫外激光掩模刻蚀的微型沟道部位的上层片基区域，使得微通道破损无法再次使用。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20211001

✅ 授权

20210924

⏳ 专利申请权的转移：

20200211

?? 实质审查的生效：

20200110

📄 公开

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