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摘 要:本发明涉及负氧离子材料的生产设备技术领域,具体的说是一种负氧离子材料的生产设备,包括底座、存储结构、提拉结构、卡合结构、涂抹结构、限位结构和下料结构;底座上设有涂抹结构,且涂抹结构设于存储结构的底端,进而便于硅藻乳从存储结构进入涂抹结构的内部,降低了涂抹辊进入需要使用的硅藻乳的内部的深度,同时使涂抹辊蘸料的面积更大,使操作更加方便快捷,同时有效的避免了施工中的废屑大面积的进入到待使用的硅藻乳的内部,同时避免了硅藻乳大面积的氧化;存储结构的底端设有下料结构,且下料结构连接于涂抹结构,进而便于通过涂抹结构驱动下料结构控制存储结构的内部的硅藻乳的排放,进而有效的防止硅藻乳从存储结构的内部大量排出。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201911405099.2 | 专利名称: | 一种负氧离子材料的生产设备 |
申请日: | 2019-12-31 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | E04F21/08搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2021/04/02 | 授权 | |
2020/05/29 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): E04F 21/08 专利申请号: 201911405099.2 申请日: 2019.12.31 |
2020/05/05 | 公开 |