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摘 要:本发明公开了一种采用酸性抛光液和金属基抛光盘的铁氧体基片抛光方法,其特征包括:溶胶凝胶法制备非晶态合金基体抛光盘;配制油包水酸性硅溶胶抛光液;将铁氧体基片粘结在陶瓷基盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用酸性抛光液作为腐蚀剂,使铁氧体基片表面被氧化形成变质层,再利用硅溶胶和非晶态合金基体抛光盘对其表面进行抛光,去除表面变质层,从而达到抛光的作用。非晶态合金基体具有组织结构细腻,韧性高,耐腐蚀,对磨粒把持力强的特点。低表面张力油性溶剂与酸性硅溶胶混合制备油包水酸性硅溶胶抛光液,保证抛光液液膜厚度一致性以及实现表面材料的微量腐蚀。本抛光方法具有产品面型精度好,无塌边的特点。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910717105.1 | 专利名称: | 一种采用酸性抛光液和金属基抛光盘的铁氧体基片抛光方法22 |
申请日: | 2019-08-05 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24B1/00搜分类 采 酸性搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/08/04 | 授权 | |
2019/11/29 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): B24B 1/00 专利申请号: 201910717105.1 申请日: 2019.08.05 |
2019/11/05 | 公开 |