实用新型已授权

一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置

Name: 一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置
Brand: 如东汇盛通半导体科技有限公司
SKU: 2022229296259
Availability: InStock

📄 申请号：CN202222929625.9 📄 发布日：2026/11/10

著录项目信息

申请日

2022-11-03

公开号

CN218655761U

公开日

2023-03-21

申请人

如东汇盛通半导体科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B08B3_02

IPC 分类号

B08B3_02 , B08B13_00 ,

技术画像

所属领域

半导体制造设备半导体制造设备涂胶显影设备腔体清洗

应用场景

半导体制造, 光刻工艺, 晶圆涂胶, 涂胶显影, 设备维护清洗

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摘要

本实用新型公开了一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，该清洗装置包括固定套，固定套固定于涂胶腔体内的腔底板上且套装于涂胶显影机的旋转主轴上，旋转主轴的上端从固定套中露出且固定有真空吸盘，旋转主轴上还固定有清洗盘，清洗盘处于真空吸盘的下方，清洗盘上设置有清洗液喷淋环槽，清洗盘的侧壁上设置有与清洗液喷淋环槽连通的清洗孔，清洗孔朝向涂胶腔体的侧壁，固定套上固定有与清洗液供液管路连通的出液嘴，出液嘴伸入清洗液喷淋环槽内将清洗液喷入清洗液喷淋环槽内，旋转主轴由主轴旋转动力装置驱动；该装置能在旋转主轴旋转时对涂胶腔体的侧壁进行清洗，且无需拆除装置，大大提高了清洗效率和生产效率。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN218655761U

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该专利的转让价格是多少？

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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