发明专利已授权

一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法

📄 申请号：CN201911355524.1 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2019-12-25

公开号

CN110904485B

公开日

2023-07-25

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C25D11_02

IPC 分类号

C25D11_02 , C25D11_06 , C25D11_26 ,

技术画像

所属领域

表面处理技术表面处理技术激光加工微弧氧化

应用场景

金属表面强化, 航空航天制造, 汽车制造, 工业装备制造, 表面防腐耐磨

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摘要

本发明提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法，本发明装置无电解槽尺寸束缚，无需超大功率电源，可以进行局部强化或修复处理，降低能耗、提高成膜效率及膜层质量，能够降低微弧氧化起弧电压与能耗，使微弧氧化更容易进行，更快进入到成膜阶段，能够实现对大尺寸工件或复杂型面工件的加工，解决传统加工装置中的面积效应和尖端放电现象，降低工件尺寸对电源输出功率的限制，通过对极间电场的控制，实现特定区域微弧氧化。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种无需参考试样检测任意残余应力的仪器化球压入方法

当前第 / 件

具有取向隔离双填料网络的高导热电绝缘聚合物复合材料

同领域国内专利 · IPC: (C25D11_02)

C25D11_00 C25D11_02 C25D11_04 C25D11_06 C25D11_08 C25D11_10 C25D11_12 C25D11_14 C25D11_16 C25D11_18 C25D11_22 C25D11_24 C25D11_26 C25D11_30 C25D11_34 C25D11_36 C25D11_38 覆盖17个领域

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