发明专利已授权

一种非厄米超表面及其构建方法

📄 申请号：CN202310752808.4 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2023-06-25

公开号

CN116565572B

公开日

2026-06-26

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01Q15_00

IPC 分类号

H01Q15_00

技术画像

所属领域

超表面超表面非厄米光学微纳光学器件

应用场景

光场调控, 光学传感, 通信技术, 光学成像, 量子光学

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摘要

本发明提供了一种非厄米超表面及其构建方法，非厄米超表面包括复合层以及与所述复合层耦合的互补层，所述复合层与所述互补层之间设置有介质层；所述复合层镂空设置有若干空心圆柱；所述互补层与所述若干空心圆柱实心部分对应的位置处均呈镂空状。本发明通过调节结构参数和选择材料种类，使得所述复合层与所述互补层发生耦合，从而在微波波段实现器件对入射电磁波反射的影响，并通过改变所述复合层中引用的材料二氧化钒的电导率，使得所述非厄米超表面在两个不同频率点处均出现了奇异点，实现了非厄米超表面的调控，有效拓宽了非厄米超表面的应用范围，更有利于实现非厄米超表面的功能化、器件化集成应用。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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