发明专利已授权

一种可调整光源的光化学加工平台及其加工方法

📄 申请号：CN201810829046.2 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2018-07-25

公开号

CN108857841A

公开日

2018-11-23

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B29_02

IPC 分类号

B24B29_02 , B24B41_00 , B24B41_02 , B24B41_04 , B24B41_06 , B24B51_00 , B24B57_02 ,

技术画像

所属领域

光化学加工光化学加工光学加工设备光源控制技术

应用场景

半导体制造, 微纳加工, 精密制造, 表面处理, 电子器件制造

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摘要

一种可调整光源的光化学加工平台及其加工平台，包括：抛光装置，包括柔性抛光装置和夹持装置，柔性抛光装置安装在夹持装置的活动端，用于加工工件；抛光工作台，用于夹紧工件并浸泡工件；可调整光源装置，用于调整光源位置，使其对准抛光工作台上的工件并对工件进行照射；抛光液补加装置，设置于抛光工作台旁，并且其加液口位于抛光工作台的抛光池正上方，用于向抛光工作台中添加抛光液；以及控制柜，与抛光装置、抛光工作台、可调整光源装置以及抛光液补加装置电连接或信号连接。本发明的有益效果是：对工件照射位置、照射强度、照射角度适应性调整，提高光化学的效果，提高光化学加工的效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种高强度、盐响应的双网络水凝胶及其应用

当前第 / 件

一种高产L-高丝氨酸的无质粒重组大肠杆菌及其应用

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