一种可调整光源的光化学加工平台及其加工平台,包括:抛光装置,包括柔性抛光装置和夹持装置,柔性抛光装置安装在夹持装置的活动端,用于加工工件;抛光工作台,用于夹紧工件并浸泡工件;可调整光源装置,用于调整光源位置,使其对准抛光工作台上的工件并对工件进行照射;抛光液补加装置,设置于抛光工作台旁,并且其加液口位于抛光工作台的抛光池正上方,用于向抛光工作台中添加抛光液;以及控制柜,与抛光装置、抛光工作台、可调整光源装置以及抛光液补加装置电连接或信号连接。本发明的有益效果是:对工件照射位置、照射强度、照射角度适应性调整,提高光化学的效果,提高光化学加工的效率。
📄 2018108290462
📂 B24B29_02
👤 浙江工业大学
📅 2018-07-25