发明专利已授权

一种基于空化效应的气液固三相磨粒流平面抛光系统

📄 申请号：CN201710977225.6 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2017-10-19

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24C3_02

IPC 分类号

B24C3_02 , B24C7_00 , B24C9_00 ,

技术画像

所属领域

磨粒流加工磨粒流加工精密抛光技术空化效应应用

应用场景

精密模具抛光, 光学元件抛光, 半导体晶圆抛光, 医疗器械表面抛光, 航空航天零部件抛光

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摘要

本发明公开了一种基于空化效应的气液固三相磨粒流平面抛光系统，包括二自由度移动装置、气液固混合装置、旋转驱动装置、空化抛光工具、工件装夹装置、工件加工池、磨粒流循环装置、高压气体注入装置和控制台，空化抛光工具包括外约束块和内约束块，内约束块与外约束块共同形成入口大、出口小的环形窄缝流道，该环形窄缝流道通过外约束体上的内部流道与旋转主轴上的通孔相通。本发明利用结构空化原理，在空化抛光工具上设置环形窄缝流道，利用入口较大出口较小的流道设计实现了液体本身的结构空化，实现工件表面的高效材料去除率；通过空化抛光工具上圆角的设计实现液体二次空化，提高了流体抛光加工效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

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当前第 / 件

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