发明专利 已授权

一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台

📄 申请号:CN202010921104.1 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2020-09-04
公开号
CN111915977A
公开日
2020-11-10
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

精密制造, 表面处理, 光学元件加工, 半导体晶圆抛光, 实验教学与科研

摘要

本发明涉及一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台,包括机床、抛光辊子、进给单元、传感器。抛光辊子安装在机床上,进给单元包括往复进给机构、第一微进给机构、第二微进给机构;往复进给机构驱动工件往复运动均匀抛光,第一和第二微进给机构的位移可精确调整被夹持工件与抛光辊子的高度差及间距,形成微小间隙;传感器包括电涡流位移传感器和压力传感器,电涡流位移传感器用于检测工件与抛光辊子的间距,压力传感器用于实时监测抛光加工流体动压力。该实验平台各机构设计完善,辅以位移、压力测控系统,各工艺参数柔性可调,可实现流体动压抛光波纹度机理与控制的深入研究。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G09B25_02)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:19 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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