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发明专利
已授权
一种Y型苯并咪唑三阶非线性光学材料及其制备方法和应用
📄 申请号:CN202310034722.8
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2023-01-10
公开号
CN115991676B
公开日
2025-03-18
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C07D235_18
IPC 分类号
C07D235_18
,
G02F1_361
,
技术画像
所属领域
非线性光学材料
非线性光学材料
有机光电材料
功能高分子材料
应用场景
光通信, 光限幅器件, 光学开关, 激光防护, 光子器件
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摘要
本发明公开了一种Y型苯并咪唑三阶非线性光学材料及其制备方法和应用。苯并咪唑分子具有共轭的大π平面结构,而且,其还具有多个可修饰的活性位点。本发明是以苯并咪唑为母体,在一端引入吸电基团,增加母体吸电性,并在另一端通过Suzuki偶联接入不同的供电子基团,形成一个Y型,增强了分子内电荷转移能力,从而产生了更好的非线性光学性能。本发明采用的技术方案是:本发明提供一类式(DEN)所示:#imgabs0#式(DEM)中:R1为硝基或氰基,R2为三芳胺基或苯基。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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未申报
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