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一种跨基膜反扩散原位生长ZIF改性的聚乙烯基聚酰胺荷正电纳滤膜的制备方法及应用

Name: 一种跨基膜反扩散原位生长ZIF改性的聚乙烯基聚酰胺荷正电纳滤膜的制备方法及应用
Brand: 浙江工业大学
SKU: 2025106264868
Availability: InStock

📄 申请号：CN202510626486.8 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2025-05-15

公开号

CN120204962B

公开日

2026-05-08

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B01D71_56

IPC 分类号

B01D71_56 , B01D61_02 , B01D69_02 , B01D69_12 , B01D67_00 , B01D71_26 , C02F1_44 , C02F101_10 ,

技术画像

所属领域

纳滤膜纳滤膜金属有机骨架材料膜分离技术

应用场景

水处理, 海水淡化, 工业废水处理, 离子分离, 饮用水净化

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摘要

本发明公开了一种跨基膜反扩散原位生长ZIF改性的聚乙烯基聚酰胺荷正电纳滤膜的制备方法及应用，首先用含有均苯三甲酰氯单体的有机相溶液浇涂支撑膜，然后将聚乙烯亚胺与六水合硝酸锌的混合水溶液浇涂在它的上方进行界面聚合，将聚合完成后的支撑底膜翻转，将2‑甲基咪唑水溶液浇涂于此面，进行跨基膜原位生长ZIF，生长完成后，将膜进行热处理以及醇活化。本发明方法可以使ZIF粒子更加均匀的生在在膜的内部，避免了因MOF团聚而产生的界面间隙，结合使用聚乙烯亚胺作为水相单体的反相界面聚合方法可以制备出高正电层，保持对镁离子高截留的同时大幅度提升水渗透通量，解决渗透性‑选择性相互制约的问题，过程简单，制备条件温和。

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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